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Ellipsometry

释义 Definition

椭偏测量法(椭圆偏振测量):一种光学表征技术,通过测量光在材料表面反射/透射后偏振态的变化,来推断薄膜的厚度、折射率、吸收系数等光学参数。常用于半导体工艺、涂层与纳米薄膜分析。(在更广义用法中也可指相关仪器或测量过程。)

发音 Pronunciation (IPA)

/ˌɛlɪpˈsɒmɪtri/ , /ˌɛlɪpˈsɑːmɪtri/

例句 Examples

Ellipsometry can measure thin films without touching the surface.
椭偏测量法可以在不接触表面的情况下测量薄膜。

By fitting the ellipsometry data to an optical model, the researchers estimated the oxide layer thickness and refractive index with high precision.
研究人员通过将椭偏数据拟合到光学模型中,高精度估算了氧化层的厚度与折射率。

词源 Etymology

ellipsometryellipse(椭圆) + -metry(测量) 构成。之所以与“椭圆”相关,是因为该技术关注光的偏振变化;偏振光的状态常可用“偏振椭圆”来描述,因此得名。

相关词 Related Words

文献与著作 Literary / Notable Works

  • Ellipsometry and Polarized Light(R. M. A. Azzam & N. M. Bashara)——经典专著,系统讲解椭偏理论与应用。
  • Spectroscopic Ellipsometry: Principles and Applications(Hiroyuki Fujiwara)——以“光谱椭偏”为核心的权威教材/参考书。
  • Handbook of Optical Constants of Solids(Edward D. Palik 编)——光学常数的重要参考书中多处涉及椭偏测量与数据获取方法。
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